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      帕爾貼Chiller

      帕爾貼Chiller

      適用范圍

      冠亞恒溫LNEYA 帕爾貼熱電制冷器CHILLER溫度范圍從-20到90℃,專為半導體行業(yè)度身定制;

      基于經過實踐驗證的帕爾貼熱傳導原理,帕爾貼溫度控制系統(tǒng)能夠為等離子刻蝕應用提供可重復性的溫度控制;

      對于靜電卡盤(ESC)動態(tài)的溫度控制,使得其能夠應用于所有類型的刻蝕工藝;

      快速和準確的溫度控制,能夠滿足任何嚴苛的工藝要求;

      低能耗,空間占地小,同時還能夠穩(wěn)定的控制溫度。

      全國服務熱線 400-100-3163

      LNEYA 帕爾貼熱電制冷器Chiller有五款款型號可選,為晶圓蝕刻工藝提供可靠和精確的溫度控制

      • 高可靠性和低使用成本;工業(yè)空間占用率?。粯O低的導熱液填充量;
      • 低能耗,沒有壓縮機和制冷劑的系統(tǒng),同時只有在有負載時輸出,大幅度降低能耗;
      • 制熱、直冷時,冷熱部件沒有與導熱液直接接觸;動態(tài)控溫,精準控制過程溫度,快速溫度響應;
      • 溫度漂移保護功能使得刻蝕的輪廓更加穩(wěn)定;改善Wafer-Wafer的穩(wěn)定性;模塊化部件使得維修更加方便;使用全氟液體。
      型號 TEC-1200W TEC-2500W TEC-4500W
      溫度范圍 -20℃~90℃
      控溫精度 ±0.1℃
      制冷能力 20℃ 1200W 2450W 4500W
      10℃ 900W 1925W 3500W
      0℃ 600W 1400W 2600W
      ?-10℃ 350W 875W 1600W
      ?-20℃ 80W 350W 700W
      制熱能力 >3000W >6000W >12000W
      泵類型 直流磁力泵
      壓力(bar) ≤4
      流量 15L/min at 2bar
      流體 Galden HT135
      冷卻水溫度 DI<20℃
      冷卻水流量 ≥12L/min ≥20L/min ≥32L/min
      CDA開啟溫度 <30℃
      CDA壓力 0.5-0.8bar
      CDA流量 2-3m3/h
      CDA露點溫度 ≤30℃
      電源電壓 AC208V,三相電壓

      行業(yè)應用

      半導體FAB工藝過程控溫解決方案

      半導體制造是一個對環(huán)境要求極高的過程,許多工藝步驟對溫度非常敏感。

      精確的溫度控制能夠確保沉積的薄膜厚度均勻、成分準確,從而提高芯片的性能和良率。

      半導體封測工藝過程控溫解決方案

      半導體封測工藝是半導體生產流程中的關鍵環(huán)節(jié),包括晶圓測試、芯片封裝和封裝后測試。這一流程不僅要求高度的精確性和可靠性,還需要對溫度進行嚴格控制,以確保產品的質量和性能。

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