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冠亞恒溫有豐富的半導體行業(yè)產品控溫經驗，產品覆蓋光刻、刻蝕、薄膜沉積、拋光等多種過程控溫。
產品包括：制冷加熱循環(huán)器Chiller，低溫制冷Chiller，無壓縮機換熱單元等，控溫精度高達±0.01℃
SOLUTION
半導體制造是一個對環(huán)境要求極高的過程，許多工藝步驟對溫度非常敏感。
例如，在光刻工藝中，光刻機的光學系統(tǒng)需要在穩(wěn)定的溫度環(huán)境下工作，因為溫度的微小變化可能導致光路的偏差，進而影響光刻的精度。在化學氣相沉積（CVD）和物理氣相沉積（PVD）等工藝中，反應溫度直接影響薄膜的質量和性能。準確的溫度控制能夠確保沉積的薄膜厚度均勻、成分準確，從而提高芯片的性能和良率。
單通道 Single Channel Chiller
—控溫精度可達±0.01℃（出口溫度穩(wěn)態(tài)）
單通道系列Chiller加載情況下控溫精度高，可在-100℃~+90℃之間任意切換，具有良好的溫度跟隨性；先進的低溫制冷技術，支持-100℃~ -80℃超低溫控溫。
雙通道 Dual Channel Chiller
—支持雙通道獨立控溫
FLTZ系列雙通道Chillers主要用于半導體制程中對反應腔室溫度的準確控制，公司在系統(tǒng)中應用多種算法（PID、前饋PID、無模型自建樹算法），顯著提升系統(tǒng)的響應速度、控制精度和穩(wěn)定性。
三通道 Triple Channel Chiller
—三通道獨立控溫
FLTZ系列三通道Chillers主要應用與半導體生產過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度準確控制，系統(tǒng)支持三個通道獨立控溫，每個通道有獨立的溫度范圍、冷卻加熱能力、導熱介質流量等。
帕爾貼 Chiller
—熱電制冷器
對于靜電卡盤(ESC)動態(tài)的溫度控制，使得其能夠應用于所有類型的刻蝕工藝；
快速和準確的溫度控制，能夠滿足任何嚴苛的工藝要求；
低能耗、高效率，節(jié)省空間，同時還能夠穩(wěn)定的控制溫度。
雙通道高溫Chiller
—FLTZ系列
冠亞恒溫LNEYA雙通道?溫控溫的Chiller，可以?來滿?半導體?溫測試需求，介質溫度最?可達250℃，以特殊的?藝?式，保證系統(tǒng)?溫?況下的控溫精度
精密恒溫恒濕機組
—超精密空調
半導體、液晶和太陽能電池板等設備的?產設施中使?的設備、?產流程、檢驗流程及空間，需要?度準確和穩(wěn)定的空?處理。為了滿?這些需求，全區(qū)域空?處理將需要極?的相關費?和維護成本
冷凍機-工業(yè)冷凍機-高低溫一體機
