【產(chǎn)品介紹】二次換熱型TCU控溫系統(tǒng)SR系列

ETCU換熱控溫單元

2024年5月25日 649

ETCU換熱控溫單元冷卻?溫度范圍：+5℃?+90℃，控溫精度±0.05℃；系統(tǒng)?壓縮機(jī)，通過(guò)換熱降溫；?持?標(biāo)定制，?持PC遠(yuǎn)程控制；采?西??/霍尼?爾調(diào)節(jié)閥控制冷卻?流量；最?循環(huán)量時(shí)，控溫溫度與冷卻?溫度溫差15°C。

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高低溫控溫系統(tǒng)一拖二在化工換熱器中的應(yīng)用

2024年11月21日 279

在化工行業(yè)中，高低溫控溫系統(tǒng)一拖二作為一種溫度控制設(shè)備，在化工換熱器中通過(guò)準(zhǔn)確的溫度控制和穩(wěn)定的傳遞，確保了化工生產(chǎn)過(guò)程的穩(wěn)定性和效率。 一、高低溫控溫系統(tǒng)一拖二在化工換熱器中的應(yīng)用優(yōu)勢(shì) 高精度溫控能力： 高低溫控溫系統(tǒng)一拖二采用...

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晶圓制造領(lǐng)域控溫chiller應(yīng)用案例

2025年2月27日 237

在晶圓制造領(lǐng)域，晶圓制造領(lǐng)域控溫chiller的應(yīng)用比較重要，因?yàn)闇?zhǔn)確的溫度控制能夠確保晶圓加工過(guò)程中的質(zhì)量和產(chǎn)量。以下晶圓制造領(lǐng)域控溫chiller是一些具體的應(yīng)用案例： 案例一：光刻過(guò)程中的溫度控制 應(yīng)用描述：光刻是晶圓制造中的關(guān)鍵步驟，需...

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【產(chǎn)品介紹】TCU換熱控溫系統(tǒng)ZLF系列

2024年9月24日 389

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